Nanosystem NV-2400非(fēi)接觸(chù)式3D輪(lún)廓儀​是一(yī)款(kuǎn)適用(yòng)於(yú)各種(zhǒng)表(biǎo)麵(miàn)的快速非接觸式(shì)三維輪(lún)廓儀。XY自(zì)動(dòng)平(píng)台，而Z軸(zhóu)是(shì)手動的。納(nà)米係(xì)統主(zhǔ)要(yào)是為R&D，高(gāo)校和過程管理用(yòng)戶而設計(jì)。Nanosystem用(yòng)自己Patented算(suàn)法和白(bái)光(guāng)幹涉(shè)技術(shù)創造硬件和軟件(jiàn)。它可(kě)以通過拼(pīn)接函數(shù)測量(liáng)大視(shì)場(500mm²)。Patented WSI/PSI技術(shù)測量(liáng)各種表麵材(cái)料(liào)和(hé)參數(shù)，包(bāo)括表麵紋(wén)理，形狀，台階高度(dù)和(hé)更高的二維和三維剖麵(0.1 nm-垂直和(hé)0.2 um-橫向分辨(biàn)率(shuài))。Patented WSI/PSI技(jì)術(shù)測量各(gè)種表(biǎo)麵材(cái)料(liào)和(hé)參數，包(bāo)括(kuò)表麵紋(wén)理的(dí)2D和3D輪廓，形狀(zhuàng)，台(tái)階(jiē)高度(dù)及以上(shàng)(0.1nm-垂直(zhí)和0.2微(wēi)米-橫向(xiàng)分辨(biàn)率)。

白光掃描幹涉(shè)技術(shù)(WSI)是一種測量(liáng)高分辨率(0.1nm)，高速測(cè)量(liáng)表麵(miàn)積(jī)，高(gāo)度和體(tǐ)積的(dí)技術。在不(bù)破(pò)壞任(rèn)何(hé)破壞的(dí)情(qíng)況下，納(nà)米係(xì)統的(dí)WSI技術(白光掃(sǎo)描幹涉法)能在幾秒鐘內從0.1nm到10000米範圍內測量(liáng)樣(yàng)品(pǐn)，並提供真(zhēn)實的樣(yàng)品三維(wéi)形(xíng)狀(zhuàng)。此(cǐ)外(wài)，重復(fù)性小(xiǎo)於0.1%(1σ)，無論(lùn)放大，z軸(zhóu)分辨(biàn)率(shuài)為0.1nm。基於(yú)納(nà)米係統技術的精度(高精度，重復(fù)性(xìng)和重復性)，該(gāi)產(chǎn)品(pǐn)可廣泛應用於半導體，印刷電(diàn)路板，顯(xiǎn)示，工(gōng)程部(bù)件(jiàn)，化(huà)工材料(liào)，光學(xué)部(bù)件(jiàn)，生(shēng)物(wù)，R&D等領域(yù)。

Nanosystem NV-2400非接(jiē)觸式3D輪(lún)廓(kuò)儀提供(gōng)高分辨率(shuài)(0.1nm)，10萬倍(bèi)放大率(10 Mm)和高清晰度(dù)圖(tú)像，在(zài)0.1nm至10000 m範(fàn)圍內(nèi)，在2秒內測(cè)量(liáng)樣品(pǐn)，提(tí)供(gōng)真(zhēn)實的2D/3D樣品形狀，無(wú)需(xū)準(zhǔn)備(隻需(xū)將樣品直(zhí)接(jiē)放在(zài)舞(wǔ)台(tái)上)，測(cè)量(liáng)任(rèn)意尺寸和幾乎任(rèn)何材料的樣品(pǐn)(反射(shè)率為1%)。

NV-2400的優(yōu)點

·       優(yōu)良(liáng)的測(cè)量精度

·       抗振動(dòng)設計(jì)

·       快(kuài)速測量(liáng)速度

·       友好的測量界麵(miàn)

·       Stitching功能

·       2D和(hé)3D多(duō)功能(néng)性(xìng)能(néng)

主要功能(néng)

·       3D 形貌(mào)測量

·       粗(cū)糙(cāo)度 (ISO 25178) 和平(píng)整度(dù) (選(xuǎn)項)

·       高(gāo)度，深(shēn)度(dù)，寬度(dù)(從(cóng)亞(yà)納米到(dào)10mm)·

·       麵積信(xìn)息(體積，麵(miàn)積)

·       2D和3D 測(cè)量(liáng)

產(chǎn)品(pǐn)規格(gé)

·       幹(gān)涉物(wù)鏡：5個物(wù)鏡可(kě)選(xuǎn)

·       掃描範圍(wéi)：0-180um（270um，5mm可選）

·       垂(chuí)直(zhí)分(fēn)辨率(shuài)：WSI：﹤0.5nm ，PSI ：﹤0.1nm

·       傾斜台(tái)：±6°

·       Z軸行程：100mm（手動）

·       工作台(tái)麵：100X100mm（程控(kòng))