Nanosystem NV-1000白(bái)光幹(gān)涉儀

WSI白(bái)光幹涉(shè)/PSI相位幹涉測(cè)量檢(jiǎn)測設(shè)備，利用白光(guāng)幹涉現象以及幹涉信(xìn)號處理方(fāng)式，高精度真實還(huán)原(yuán)測量物(wù)體的(dí)輪廓原貌，解決(jué)了測量高(gāo)精度物(wù)體(tǐ)時，隻能(néng)破(pò)壞測(cè)量(liáng)物做切(qiē)片的(dí)難題(tí)。

設備測(cè)量應用涵(hán)蓋(gài)晶(jīng)圓，液晶，等離(lí)子顯示板(bǎn)，半(bàn)導體，透(tòu)鏡曲率測(cè)量，印(yìn)刷電路板等方麵。縱(zòng)向測(cè)量(liáng)精度高達(dá)0.5nm/0.1nm（WSI/PSI）以(yǐ)下，平麵測量(liáng)精度高達(dá)到7.4nm以(yǐ)下。其高(gāo)精(jīng)度，廣領(lǐng)域(yù)度，客(kè)戶體驗度(dù)，受到了高(gāo)精製(zhì)造(zào)行業(yè)的喜愛。

設備(bèi)原理

WSI白(bái)光幹涉(shè)和PSI相位幹(gān)涉原(yuán)理(lǐ)雖然測量原(yuán)理不同，但是除(chú)了(liǎo)使(shǐ)用單(dān)頻光和多頻光(guāng)這一(yī)點(diǎn)不(bù)同(tóng)外，使用(yòng)同樣(yàng)的(dí)光學和測(cè)量(liáng)係(xì)統，因此(cǐ)可以在同(tóng)一(yī)設(shè)備上(shàng)進行使用(yòng)。

兩(liǎng)種測量方法(fǎ)共(gòng)同的(dí)特征(zhēng)是利用幹(gān)涉信號進(jìn)行處(chǔ)理(lǐ)。幹涉(shè)信號(hào)是從(cóng)任意光(guāng)源(yuán)同時出發(fā)的兩束光通過不同(tóng)的光路後疊加時，根(gēn)據(jù)兩束(shù)光的光(guāng)路(lù)距離(lí)差(chà)產(chǎn)生明暗(àn)相間(jiān)的(dí)物(wù)理(lǐ)現(xiàn)象。WSI/PSI設(shè)備正是使用(yòng)了以上原(yuán)理進(jìn)行(háng)測量。

WSI測量原(yuán)理

WSI（White-LightScannng Interferometry）的特征

-在掃(sǎo)描(miáo)範圍(wéi)內持(chí)續掃描後進行(háng)測(cè)量。

-在允(yǔn)許(xǔ)掃(sǎo)描的(dí)範(fàn)圍內可(kě)以(yǐ)測量(liáng)高(gāo)度。

PSI測量(liáng)原理(lǐ)

PSI（Phase ShiftingInterferometry）測(cè)量(liáng)原理

PSI的特征(zhēng)

-中(zhōng)心(xīn)波長(cháng)（大約(yuē)600nm）的(dí)1/4為(wéi)間隔，進行(háng)4回(huí)掃描後(hòu)測(cè)量。

-與(yǔ)掃(sǎo)描範(fàn)圍(wéi)無關(guān)，隻能測量250nm以下的高(gāo)度(dù)。

Nanosystem NV-1000白光(guāng)幹涉(shè)儀技(jì)術參數：

幹(gān)涉物鏡：單(dān)透鏡可選

掃描(miáo)範圍：0-180um（270um可選）

垂直分辨率(shuài)：WSI：﹤0.5nm ，PSI ：﹤0.1nm

傾斜台(tái)：±3°

Z軸行(háng)程：30mm（手動）

工(gōng)作台麵：50X50mm（手(shǒu)動）