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簡要描述:Nikalyte NL-Cube物(wù)理(lǐ)氣(qì)相沉積(jī)係(xì)統是(shì)一(yī)個(gè)緊湊(còu)且靈活(huó)的PVD(物理(lǐ)氣相沉(chén)積)係(xì)統,具備薄膜,納米顆粒(lì)和合金(jīn)沉(chén)積(jī)能(néng)力(lì)。該(gāi)係統有(yǒu)兩種型(xíng)號(hào):375型(xíng)(最多(duō)可容納(nà)五個源,基底(dǐ)直徑可達(dá)四英寸)和300型(最多(duō)可容納四(sì)個(gè)源,基(jī)底(dǐ)直(zhí)徑可(kě)達兩(liǎng)英寸(cùn))。由(yóu)於其(qí)體積相(xiāng)對(duì)較小(xiǎo),真(zhēn)空腔體的抽真空速(sù)度較(jiào)快,周轉時間約為(wéi)30分鐘。
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Product Category相(xiāng)關文(wén)章
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| 品(pǐn)牌(pái) | 其(qí)他品(pǐn)牌(pái) |
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Nikalyte NL-Cube物理(lǐ)氣(qì)相沉(chén)積(jī)係統是(shì)一(yī)個(gè)緊(jǐn)湊且靈活的(dí)PVD(物理(lǐ)氣相沉積(jī))係統(tǒng),具備薄膜,納(nà)米顆粒和(hé)合金沉積(jī)能力。該係統有兩(liǎng)種型(xíng)號(hào):375型(xíng)(最多(duō)可容(róng)納五個(gè)源,基底(dǐ)直徑(jìng)可(kě)達四英(yīng)寸(cùn))和300型(最(zuì)多可容(róng)納四個源,基底直(zhí)徑(jìng)可達兩(liǎng)英(yīng)寸(cùn))。由於(yú)其(qí)體(tǐ)積(jī)相對較小,真(zhēn)空腔體(tǐ)的抽真空(kōng)速度較快(kuài),周轉時間(jiān)約為(wéi)30分鐘(zhōng)。

Nikalyte NL-Cube物理氣相沉(chén)積(jī)係(xì)統(tǒng)可(kě)兼容多種源(yuán),包(bāo)括(kuò)磁(cí)控濺(jiàn)射(shè)源,納米顆粒源(yuán),小型電(diàn)子束源,熱(rè)舟(zhōu)源(yuán)以(yǐ)及(jí)原子和離子源(yuán)。係(xì)統可(kě)以配置(zhì)為向上(shàng)濺射或向(xiàng)下濺射模式。此(cǐ)外,還提供(gōng)基(jī)底(dǐ)旋(xuán)轉(zhuǎn),偏壓以及最(zuì)高可達800℃的(dí)加熱(rè)選項。
真空(kōng)腔(qiāng)體在(zài)英國(guó)製(zhì)造,采(cǎi)用高(gāo)質量的304不鏽鋼(gāng)材質(zhì),並(bìng)配有(yǒu)輕質鋁製(zhì)門(mén)。它安裝在一個係(xì)統(tǒng)機架(jià)上(shàng),該機架包含控製係(xì)統(tǒng),電源和(hé)真空泵(bèng)。整(zhěng)個係統配備(bèi)輪(lún)子以(yǐ)便(biàn)移動,並(bìng)在定位後(hòu)可(kě)鎖(suǒ)定腳(jiǎo)部以固定位置(zhì)。
集(jí)成(chéng)的PC和多功能Spectrum軟(ruǎn)件(jiàn)提(tí)供(gōng)了無(wú)縫的用(yòng)戶(hù)體(tǐ)驗,使客(kè)戶(hù)能夠(gòu)遠程控(kòng)製該係統並運行(háng)復雜的工(gōng)藝配方。

關鍵特性:
· 可(kě)用(yòng)的源包(bāo)括磁控(kòng)濺射源(yuán),納(nà)米粒子源,小型(xíng)電子束(shù)源,熱舟(zhōu)蒸(zhēng)發(fā)源,原(yuán)子源(yuán)和(hé)離(lí)子源(yuán)。
· 提(tí)供向(xiàng)上濺射或向(xiàng)下(xià)濺射(shè)配(pèi)置。
· 提供(gōng)旋(xuán)轉(zhuǎn),偏壓以(yǐ)及高達800℃的(dí)加熱選(xuǎn)項。
· 周(zhōu)轉(zhuǎn)時間約(yuē)為(wéi)45分鐘。
· 真空度可達(dá)5×10⁻⁷托。
· 係(xì)統(tǒng)機(jī)架(jià)包(bāo)含(hán)控製(zhì)係(xì)統,電源和(hé)泵(bèng)。
· 集成的個人(rén)電腦(nǎo)配(pèi)備Spectrum軟(ruǎn)件(jiàn),可實(shí)現自動(dòng)化過(guò)程控製,復雜配(pèi)方(fāng)和數據(jù)記錄。
The Cube係(xì)統(tǒng)配(pèi)置(zhì):
項目(mù) | Cube 300 | Cube 375 |
沉(chén)積腔(qiāng)尺寸(cùn) | 300×300×300 mm | 375×375×375 mm |
基(jī)礎(chǔ)真(zhēn)空(kōng)度 | <1×10⁻⁶托 | <5×10⁻⁷托 |
濺射方向 | 向(xiàng)下濺(jiàn)射(shè)/向(xiàng)上(shàng)濺(jiàn)射 | 向下濺射(shè)/向(xiàng)上濺射 |
樣品台(tái) | 2英寸晶圓(yuán),20轉/分鐘旋轉,射頻/直(zhí)流(liú)偏壓(yā)和加熱至400℃ | 4英寸晶圓,20轉/分(fēn)鐘(zhōng)旋轉,射(shè)頻/直(zhí)流偏(piān)壓(yā)和加熱至800℃ |
抽真(zhēn)空係統(tǒng) | 80升/秒渦輪分子(zǐ)泵(bèng)配7.2立方米/小(xiǎo)時幹式前級泵 | 300升(shēng)/秒渦輪(lún)分(fēn)子泵配(pèi)7.2立(lì)方米(mǐ)/小(xiǎo)時幹式(shì)前級泵 |
閥門 | 手(shǒu)動(dòng)/自動閥門(mén),快門,直(zhí)綫驅(qū)動和(hé)抽真空擋(dǎng)板(bǎn)閥(fá) | 手(shǒu)動/自動閥門,快(kuài)門,直(zhí)綫驅(qū)動(dòng)和抽(chōu)真空擋(dǎng)板(bǎn)閥 |
控製(zhì)軟(ruǎn)件(jiàn) | 配方驅動(dòng)過程,電(diàn)源控製(zhì)和(hé)數據記錄 | 配方(fāng)驅動過程,電源(yuán)控製(zhì)和數據記錄 |
原位監(jiān)測 | 石英晶體微(wēi)量天平用於(yú)過(guò)程(chéng)監(jiān)測和終點檢(jiǎn)測 | 石(shí)英(yīng)晶體(tǐ)微量(liáng)天平用(yòng)於過(guò)程(chéng)監(jiān)測和(hé)終(zhōng)點檢(jiǎn)測(cè) |
源端口(kǒu) | 最多4個沉積(jī)源(yuán) | 最多(duō)5個沉(chén)積源 |
源類型(xíng) | 納(nà)米粒子源(yuán),磁控濺射(shè)源,小(xiǎo)型電(diàn)子(zǐ)束蒸發(fā)源(yuán),熱(rè)舟蒸(zhēng)發源(yuán),K型離(lí)子源,射頻原子源 | 納(nà)米粒子源,磁控濺射(shè)源,小(xiǎo)型電子束蒸發(fā)源,熱舟(zhōu)蒸發(fā)源,K型(xíng)離(lí)子源(yuán),射頻(pín)原(yuán)子(zǐ)源 |
塗層均匀(yún)性(xìng) | ±2%(樣品旋轉(zhuǎn)時) | |
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