Nikalyte NEXUS物理氣相沉積係統是(shì)一種超高真(zhēn)空物理氣相(xiāng)沉積（PVD）係統，能夠同(tóng)時(shí)生成(chéng)納(nà)米顆粒(lì)和薄膜，非(fēi)常(cháng)適合工業(yè)和(hé)學術研(yán)究(jiū)。它(tā)適用於(yú)廣(guǎng)泛的應用(yòng)領(lǐng)域，包括催化(huà)，光子學，能(néng)量存儲(chǔ)，傳感器和生(shēng)命(mìng)科學。這(zhè)種(zhǒng)超(chāo)高真(zhēn)空沉積(jī)係(xì)統可(kě)以與(yǔ)分析工具集成(chéng)，為您的(dí)研究需(xū)求提供(gōng)定製化(huà)的解決方(fāng)案。

關鍵特(tè)性：

·         通過結(jié)合納米(mǐ)顆(kē)粒(lì)和薄(báo)膜生成(chéng)復(fù)雜材(cái)料。

·         使用(yòng)NL-UHV技術生產無烴(tīng)納米(mǐ)顆(kē)粒。

·         帶有負(fù)載鎖，烘烤和抽真(zhēn)空(kōng)升級(jí)選(xuǎn)項的超(chāo)高真(zhēn)空係統。

·         渦輪分(fēn)子(zǐ)泵/幹式背抽(chōu)泵組合。

·         最(zuì)多可容納5個(gè)源的(dí)共(gòng)聚(jù)焦端口幾何(hé)結構(gòu)。

·         兼(jiān)容(róng)第(dì)三方(fāng)源(yuán)。

·         提(tí)供(gōng)旋轉，加熱和(hé)偏置(zhì)選項(xiàng)的基(jī)底塗層(céng)。

·         保護人(rén)員(yuán)和(hé)設備(bèi)的安(ān)全(quán)聯鎖。

·         全(quán)自(zì)動化且由(yóu)配(pèi)方驅動的(dí)軟(ruǎn)件。

Nikalyte NEXUS物理氣(qì)相沉積(jī)係統基本係統配置

• 沉積腔(qiāng)尺寸(cùn)：450 mm
• 基(jī)礎真空度：<5×10⁻⁷ Torr
• 沉積(jī)方(fāng)向(xiàng)：向(xiàng)上(shàng)濺射
• 樣品台(tái)：4英(yīng)寸(cùn)晶圓(yuán)，20轉(zhuǎn)/分鐘旋轉(zhuǎn)，Z軸(zhóu)移(yí)動用於(yú)樣(yàng)品(pǐn)裝(zhuāng)卸
• 抽真空(kōng)係統：300升(shēng)/秒渦輪分子泵(bèng)，配備7.2立方米/小時(shí)幹式前級泵(bèng)
• 閥(fá)門(mén)：手(shǒu)動(dòng)閥(fá)門，快門(mén)和綫性驅動(dòng)裝置(zhì)
• 控製軟件：配方(fāng)驅動工藝(yì)，電源控製(zhì)和數(shù)據(jù)記錄
• 原位(wèi)監測(cè)：石英晶體微量天平用於(yú)工藝(yì)監測和終點檢測
• 源(yuán)端(duān)口：最(zuì)多5個(gè)沉積源(yuán)，2個共焦CF150和(hé)3個(gè)共焦CF100源端(duān)口
• 源類(lèi)型(xíng)：納米(mǐ)顆粒源(yuán)，磁控(kòng)濺射(shè)源，小(xiǎo)型(xíng)電(diàn)子(zǐ)束蒸(zhēng)發源(yuán)，熱舟源，K型(xíng)離(lí)子源，射(shè)頻(pín)原(yuán)子源可選(xuǎn)配置(zhì)：
• 5×10⁻⁹ Torr基礎真空度(dù)（配備(bèi)烘(hōng)烤選項）
• 樣品台：
• 直流(liú)偏壓(yā)用於納(nà)米顆粒加(jiā)速
• 射頻(pín)偏壓(yā)用於樣(yàng)品(pǐn)表麵(miàn)清潔(jié)
• 加熱(rè)至800°C
• 抽真空係統(tǒng)：700升(shēng)/秒(miǎo)渦(wō)輪分子泵
• 獨立抽真(zhēn)空的裝(zhuāng)載(zǎi)鎖和傳輸臂(bì)
• 係(xì)統(tǒng)烘(hōng)烤(kǎo)
• 閥門，快門(mén)和(hé)綫性驅動裝(zhuāng)置(zhì)的自動(dòng)化選(xuǎn)項(xiàng)
• 在渦輪(lún)分子泵前設置可(kě)調(tiáo)節擋板，以(yǐ)增加(jiā)動態(tài)壓力範圍，用(yòng)於(yú)在(zài)較低氣(qì)體流量(liáng)下進行濺(jiàn)射