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簡(jiǎn)要描述:NL-QMS磁控濺射納米(mǐ)顆(kē)粒尺寸(cùn)控(kòng)製(zhì)係(xì)統(tǒng)能夠實時(shí)監(jiān)測(cè)納米顆(kē)粒(lì)的(dí)尺(chǐ)寸(cùn)分(fēn)布(bù),通過質(zhì)量過濾器按質量(liáng)或直徑(jìng)實(shí)時掃描或(huò)過(guò)濾(lǜ)沉(chén)積的納米顆粒,從而(ér)促(cù)進(jìn)生(shēng)長條件的優(yōu)化。
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NL-QMS磁控濺(jiàn)射納米(mǐ)顆粒(lì)尺寸(cùn)控製(zhì)係(xì)統

四極杆(gān)質譜儀(Quadrupole Mass Spectrometer, QMS)在(zài)磁(cí)控(kòng)濺(jiàn)射納(nà)米顆粒尺寸(cùn)控製中的(dí)應用主(zhǔ)要體現(xiàn)在(zài)以下(xià)幾個(gè)方麵(miàn):
1. 實(shí)時監(jiān)測與(yǔ)反(fǎn)饋:
o QMS能(néng)夠(gòu)實時監測納(nà)米顆粒的(dí)尺寸分布,通(tōng)過質量(liáng)過(guò)濾(lǜ)器按(àn)質量或直徑(jìng)實時掃(sǎo)描或(huò)過濾沉積(jī)的(dí)納米顆(kē)粒(lì),從而促進生長條件的優化。
o 通過調(tiáo)整工藝(yì)參數,如磁控濺(jiàn)射電(diàn)流,結(jié)露區(qū)長度和(hé)氣(qì)體(tǐ)流量等,可以精(jīng)確(què)控(kòng)製(zhì)納米顆粒的(dí)尺寸。
2. 精確控製(zhì)納米顆(kē)粒尺寸(cùn):
o 在1-20 nm範(fàn)圍內調(tiáo)整納米顆粒的尺寸分(fēn)布,這對於許多(duō)應用領(lǐng)域(如生物醫學,電子(zǐ)材料等)至(zhì)關重要(yào)。
o 例(lì)如(rú),在(zài)銀(yín)納米(mǐ)團簇的製備中,通過調(tiáo)節(jié)濺射電(diàn)流和(hé)氬氣流量,可(kě)以(yǐ)獲(huò)得(dé)平(píng)均(jūn)粒徑(jìng)為(wéi)2, 4和6 nm的銀納(nà)米(mǐ)團簇(cù)。
3. 工(gōng)藝參數的優(yōu)化:
o QMS可以與透射(shè)電子顯微鏡(jìng)(TEM)等(děng)其(qí)他表征(zhēng)手段(duàn)結合,對(duì)比在綫和離綫測(cè)量結果,確(què)保納(nà)米(mǐ)顆粒(lì)尺寸(cùn)控製的準(zhǔn)確性和一致(zhì)性。
o 通過QMS的監測數據,可(kě)以優化(huà)工藝參(cān)數,如(rú)濺射(shè)電(diàn)流,氣體流量和結(jié)露(lòu)區長度,以實(shí)現(xiàn)對(duì)納米(mǐ)顆(kē)粒(lì)尺(chǐ)寸的精(jīng)確控(kòng)製(zhì)。
4. 應用(yòng)實例:
o 在等離子體氣(qì)相(xiāng)凝(níng)聚技(jì)術中(zhōng),QMS被用(yòng)於(yú)在綫測量(liáng)銀(yín)納米團簇的粒徑尺寸與(yǔ)分(fēn)布,並與TEM離(lí)綫(xiàn)測(cè)量值進行比(bǐ)對,驗(yàn)證(zhèng)了QMS在(zài)納米顆粒尺(chǐ)寸控製中的有效性。
通(tōng)過(guò)上(shàng)述(shù)方(fāng)法(fǎ),NL-QMS能(néng)夠(gòu)有效(xiào)地(dì)控製(zhì)納米顆粒的(dí)尺寸,滿(mǎn)足不同(tóng)應用領域對(duì)納米顆粒尺寸的精確要求。
NL-QMS磁控濺射(shè)納(nà)米顆(kē)粒(lì)尺(chǐ)寸(cùn)控製係統(tǒng)技術(shù)規(guī)格
項目(mù)/源(yuán)選項(xiàng) | NL-D1 | NL-D2 | NL-D3 |
源輸(shū)出 | 75W直流 | 100W直流 | 3×75W直流 |
濺(jiàn)射(shè)靶(bǎ) | 1×1英寸 | 1×2英寸 | 3×1英寸(cùn) |
靶厚(hòu)度(dù) (mm) | 0.5-3 | 0.5-3 | 0.5-3 |
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