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簡(jiǎn)要描(miáo)述(shù):Mini E-Beam Evaporator小型(xíng)電(diàn)子束(shù)蒸發(fā)器(qì)是一(yī)種(zhǒng)用(yòng)於高(gāo)精度(dù)薄膜沉積的edge-cutting工(gōng)具(jù)。它(tā)適用於研(yán)究(jiū)和生產環境(jìng),這種(zhǒng)緊湊的係(xì)統(tǒng)利用電子(zǐ)束直接(jiē)加熱坩(gān)堝(guō)中的蒸發(fā)物,能夠以的(dí)控(kòng)製力沉積(jī)金(jīn)屬。與傳統(tǒng)的熱蒸發(fā)方法(fǎ)相比(bǐ),Mini E-Beam Evaporator具有(yǒu)更(gēng)高的效率,對(duì)基底的熱(rè)負荷更(gēng)低,並(bìng)且(qiě)能(néng)夠同(tóng)時共蒸發多種材料(liào),使(shǐ)其成為各種塗層應(yīng)用(yòng)中多功(gōng)能(néng)且可靠的(dí)解(jiě)決(jué)方(fāng)案(àn)。
產(chǎn)品分類(lèi)
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| 品(pǐn)牌 | 其(qí)他(tā)品(pǐn)牌 |
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Mini E-Beam Evaporator小型(xíng)電(diàn)子(zǐ)束(shù)蒸發器(qì)是一(yī)種用於高(gāo)精度薄膜沉積(jī)的edge-cutting工(gōng)具。它(tā)適用於研究和(hé)生(shēng)產(chǎn)環(huán)境,這(zhè)種(zhǒng)緊(jǐn)湊的(dí)係(xì)統利(lì)用電子束直接加熱坩(gān)堝中的蒸發物,能夠(gòu)以的控(kòng)製力沉(chén)積金(jīn)屬。與傳統(tǒng)的(dí)熱(rè)蒸(zhēng)發(fā)方法相(xiāng)比(bǐ),Mini E-Beam Evaporator具有更(gēng)高的(dí)效率,對基(jī)底的熱(rè)負(fù)荷(hé)更低,並(bìng)且(qiě)能夠同(tóng)時共(gòng)蒸(zhēng)發多種材(cái)料(liào),使(shǐ)其(qí)成為(wéi)各種(zhǒng)塗層(céng)應用中多(duō)功能且(qiě)可(kě)靠的解(jiě)決方(fāng)案。
Evap-4兼容超(chāo)高(gāo)真空(kōng)(UHV),可以(yǐ)單獨(dú)提(tí)供(gōng),也(yě)可以與Nikalyte定(dìng)製的任(rèn)何(hé)PVD係統集成。

關鍵(jiàn)特性:
· 最(zuì)多(duō)可(kě)共蒸(zhēng)發(fā)4種材料(liào)
· 緊(jǐn)湊(còu)的(dí)源設計
· 對(duì)基(jī)底的熱負荷低
· 集成4通道電(diàn)源
· 用於速(sù)率(shuài)監測(cè)的通量測量
· 兼(jiān)容(róng)超(chāo)高真空
· 可(kě)烘(hōng)烤(kǎo)至250°C
· 包(bāo)括手(shǒu)動(dòng)或(huò)氣動控(kòng)製(zhì)快門(mén)的(dí)選擇
· 可(kě)定製的真空內長度
Mini E-Beam Evaporator小型(xíng)電子束蒸(zhēng)發(fā)器(qì)規格(gé):
· 安裝(zhuāng)法蘭(lán):NWCF63
· 真(zhēn)空(kōng)內長(cháng)度:標準300毫米(可(kě)定製長度)
· 真空內直(zhí)徑(jìng):57毫(háo)米
· 坩(gān)堝體積:1000毫(háo)米³(1立方(fāng)厘米(mǐ))
· 坩堝材(cái)料:鉬(Mo),鎢(W),石墨(Gr)
· 坩堝襯(chèn)裏(lǐ):氧化鋁(Al₂O₃),氮化(huà)硼(péng)(PBN)
· 超高(gāo)真空(kōng)兼容性:是(shì),可(kě)烘(hōng)烤至250攝氏度(dù)
· 冷卻液(yè)流量:Min.1.0升(shēng)/分(fēn)鐘(zhōng)
· 功率:單(dān)相100-240伏交流電(diàn),50/60赫茲
· 快(kuài)門(mén):內置手(shǒu)動(dòng)或(huò)可(kě)選(xuǎn)氣動操作(zuò)
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